对羟基苯甲酸甲酯会增强紫外线引起的皮肤角质细胞损伤。
摘要来源：毒理学。 2006 年 10 月 3 日；227(1-2):62-72。 Epub 2006 年 7 月 28 日。PMID：16938376
摘要作者：Osamu Handa、Satoshi Kokura、Satoko Adachi、Tomohisa Takagi、Yuji Naito、Toru Tanikawa、Norimasa Yoshida、Toshikazu Yoshikawa
文章所属单位：Department of Biomedical Safety Science，京都府立医科大学，京都 602-8566，日本。
摘要：多年来，对羟基苯甲酸甲酯 (MP) 一直被用作化妆品中的防腐剂。在这项研究中，我们研究了紫外线 B (UVB) 暴露对 MP 处理的人类皮肤角质形成细胞的影响。 HaCaT角质形成细胞在含MP的培养基中培养24小时，暴露于UVB（15或30 mJ/cm(2)）并进一步培养24小时。随后的细胞活力通过基于 MTT 的测定进行量化，并且细胞死亡是定性的通过荧光显微镜和流式细胞术进行鉴定。使用荧光探针测量氧化应激、一氧化氮 (NO) 产生和细胞脂质过氧化。此外，通过电动凝胶迁移测定评估了核因子 kappa B 和激活蛋白 1 的激活。 MP 的实际浓度 (0.003%) 对 HaCaT 角质形成细胞中的细胞活力、氧化应激、NO 产生、脂质过氧化和核转录因子激活影响很小或没有影响。低剂量 UVB 对 HaCaT 角质形成细胞中的这些参数也几乎没有影响。然而，UVB 暴露显着增加 MP 处理的 HaCaT 角质形成细胞中的细胞死亡、氧化应激、NO 产生、脂质过氧化和转录因子激活。这些结果表明，一直被认为是化妆品中安全防腐剂的MP在暴露于阳光下可能会对人体皮肤产生有害影响。