暴露于手机发出的射频电磁场可能导致正畸患者唾液中镍含量较高

手机射频电磁场 (RF-EMFS) 对正畸托槽中镍释放的影响：一项体外研究。

Int Orthod。 2018 年 7 月 11 日。Epub 2018 年 7 月 11 日。PMID：30007574

Seyed Mohammad Javad Mortazavi、Maryam Paknahad、Iman Khaleghi、Mahsa Eghlidospour

Seyed Mohammad Javad Mortazavi

背景：全球范围内手机使用量的急剧增加引起了人们对其潜在的不利健康影响的极大关注。

目的：本研究的目的是评估手机发出的射频电磁场 (RF-EMF) 对镍从正畸托槽中释放。

方法：20个不锈钢托槽随机分为实验组和对照组（n=10）。将托槽浸入 37°C 的人工唾液中 6 个月。实验组暴露于手机刺激器发出的 GSM 900MHz RF-EMF 下 4 小时。比吸收率(SAR)为2.287W/kg。采用冷蒸气原子吸收光谱法评价两组人工唾液中镍的浓度。 Mann-Whitney 测试用于评估暴露组和非暴露组之间镍释放的显着差异。

结果： 暴露组和非暴露组的平均镍含量分别为 11.95 和 2.89 微克/升。这些组的人工唾液中镍的浓度差异具有统计学意义（P=0.001）。

结论：暴露于手机发出的射频电磁场可能会导致正畸矫治器患者唾液中镍含量较高。由于接触镍会导致人类过敏反应，并且考虑到大约 10-20% 的人口可能对镍过敏，因此需要进一步研究来评估常见设备发射的射频电磁场 (RF-EMF) 的影响例如手机或 Wi-Fi 路由器的正畸托槽镍释放量。